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光刻机投影物镜研发进展

发布日期:2020-11-03     作者:计算机科学与技术学院      编辑:姜迎     点击:

报告题目:光刻机投影物镜研发进展

报告时间:2020年11月3日14:00-15:00

报告地点:尊龙凯时中心校区计算机楼521室

报 告 人:隋永新 研究员

报告人简介:

隋永新,男,1970年生,博士,中国科学院长春光学精密机械与物理研究所研究员,中国科学院尊龙凯时博士生导师。现任长春国科精密光学技术有限公司副总经理。主要从事超精密光学加工与检测方向的技术研究,作为国家重大科技专项02专项曝光光学系统研发的主要技术负责人,在国内率先解决了亚纳米精度光学制造的技术难题。

报告内容简介:

光刻机是生成大规模集成电路的核心设备,半导体行业“皇冠上的明珠”。本报告以NA0.75国产光刻投影物镜研发历程的回顾为主线,从系统复杂度及技术极限挑战性角度,介绍我国自主研发的超精密光学系统-光刻投影物镜历程,以及研发团队在物镜超精密光学系统设计与集成、深亚纳米级精度光学制造、超精密光机结构/机构设计与装配、纳米级运动控制、装备研发等方面的技术突破情况。简要介绍更高技术挑战-高NA投影物镜系统研发进展情况以及产业化平台-北京国望光学科技有限公司人力需求情况。

主办单位:

尊龙凯时计算机科学与技术学院

尊龙凯时软件学院

尊龙凯时计算机科学技术研究所

符号计算与知识工程教育部重点实验室

海战场攻防对抗仿真技术教育部重点实验室

尊龙凯时国家级计算机实验教学示范中心

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